Модификация поверхности
Первый реагент взаимодействует с поверхностью и формирует модифицированный слой.
ТОЧНАЯ ОБРАБОТКА НА АТОМАРНОМ УРОВНЕ
Термическое
атомно-слоевое
травление
LayerEtch — исследовательская платформа для разработки и адаптации процессов термического атомно-слоевого травления тонкоплёночных материалов. Система обеспечивает программируемую последовательность подачи реагентов и продувки инертным газом между стадиями, позволяя отрабатывать циклическую обработку поверхности без использования плазменного источника.
ПРИНЦИП РАБОТЫ THERMAL ALE
Живая схема цикла
модификация → продувка → удаление → новая поверхность
модификация → продувка → удаление → новая поверхность
толщина
уменьшается
уменьшается
LayerEtch Labлабораторная платформа для разработки и отработки процессов thermal ALE
до 300 °Cдоступно в текущем лабораторном прототипе; заказная конфигурация — по техническому заданию
Thermal ALEциклический газофазный процесс без обязательного применения плазменного источника
TRL 3создан и испытан функциональный лабораторный прототип
01 / ТЕХНОЛОГИЯ
Последовательные поверхностные реакции вместо непрерывного травления
Thermal ALE разделяет обработку поверхности на отдельные газофазные стадии. Реагенты подаются последовательно, а между воздействиями выполняется продувка инертным газом. Такой режим позволяет независимо настраивать стадии цикла и исследовать их вклад в удаление материала.
Продувка инертным газом
Поток инертного газа удаляет непрореагировавший реагент и летучие продукты, разделяя стадии цикла.
Удаление модифицированного слоя
Второй реагент переводит модифицированную поверхностную область в удаляемые продукты реакции.
Повторение цикла
После удаления открывается новая поверхность; число циклов задаёт суммарную степень обработки.
02 / ПРОДУКТ
LayerEtch Lab
Лабораторная платформа термического атомно-слоевого травления
Исследовательская система для разработки, отработки и адаптации процессов thermal ALE на тонкоплёночных материалах. Конфигурация платформы формируется под требования лаборатории, используемые реагенты, температурный диапазон и задачу заказчика.
▣
Поставка платформы
Реакционная камера, вакуумная система, система нагрева, линии подачи реагентов, контроль давления и программируемое управление циклом — в согласованной комплектации.
↗
Разработка процесса
Экспериментальная отработка режимов, температур, последовательности стадий и времени воздействия под выбранный материал.
⚙
Интеграция и адаптация
Модернизация существующей вакуумной инфраструктуры и подбор отдельных модулей под требования заказчика.
Реакционная система
Термический вакуумный модуль
Конфигурация реакционной зоны определяется техническим заданием.
Температура
180–250 °C исследовано
Текущий лабораторный прототип допускает нагрев до 300 °C.
Газовая часть
Последовательная подача реагентов
Инертный газ, дозирование прекурсоров и опциональная линия окислителя.
Управление
Программируемый цикл
Настройка длительности стадий, повторов и контроля параметров процесса.
03 / ПРИМЕНЕНИЕ
Для лабораторий, которые разрабатывают новые процессы и материалы
Платформа ориентирована на исследовательские задачи, где требуется гибкая работа с тонкими плёнками, новыми реагентами и нестандартными технологическими режимами.
Микро- и наноэлектроника
Отработка процессов обработки функциональных слоёв и тестовых структур.
Тонкие плёнки
Исследование контролируемого изменения толщины и состояния поверхности.
Оксидные материалы
Разработка химических циклов для селективной обработки оксидных поверхностей.
Контрактные R&D
Тестирование реагентов, обработка образцов и подбор технологического режима по ТЗ.
04 / О ПРОЕКТЕ
От лабораторного прототипа к исследовательскому продукту
LayerEtch — технологический проект ООО «АСТ ТТ». В рамках проекта создан функциональный лабораторный прототип, проведены испытания на тонких плёнках ZnO и сформирована база для дальнейшей стандартизации и изготовления платформы под требования заказчика.
Полное наименование проекта: «Разработка технологической платформы термического атомно-слоевого травления для микро- и наноэлектроники».
КомпанияООО «АСТ ТТ»
СтадияФункциональный лабораторный прототип
Патентная заявка№ 2026128565
Дата поступления18.09.2026
ИКР626092500026-0
TRL3
Работа выполнена при поддержке гранта Фонда содействия инновациям, предоставленного в рамках программы «Студенческий стартап» федерального проекта «Платформа университетского технологического предпринимательства».
05 / КОНТАКТЫ
Обсудим вашу технологическую задачу
Запрос на лабораторную платформу, разработку процесса, обработку тестовых образцов или адаптацию конфигурации можно направить по электронной почте.
E-mail
umahan.damurov@gmail.com
ООО «АСТ ТТ»
ООО «АСТ ТЕХНОЛОГИИ ТРАВЛЕНИЯ»
ООО «АСТ ТЕХНОЛОГИИ ТРАВЛЕНИЯ»